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多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉
- 型号：
- OTF-1200X-PLD
- 产品概述：
- OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉，此款设备主要包括混气装置，加热炉，基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器配合，进行脉冲激光蒸发镀膜，而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材，可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。
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本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等）仅用于宣传用途，仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差，请勿复制或者截图。如果您对参数有异议，或者想了解产品详细信息及更多参数，请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，请勿将此参数用于招标文件或者合同，科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知，请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档，说明书（在线阅览），装箱单，与售后安装条件等文件，请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户，购买前请与工作人员沟通，以免给您带来不便。
技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 产品特点
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可与准分子激光器配合进行PLD制膜 腔体内部可安装多块靶材，进行多靶激光蒸发 腔体内部靶材可旋转 可对基片加热（最高温度可达1200℃） |
| 加热炉（对基片加热
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双层壳体结构，并带有风冷系统，使壳体表面温度小于60℃ 加热元件：掺钼铁铬铝合金（表面涂有氧化锆涂层） 最高工作温度：1200℃ 最大功率：1.2KW 
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| 腔体
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基片加热腔体为高纯石英材料 靶材蒸发腔体为不锈钢材料 靶材蒸发腔体内可安装3块靶材，并且靶材可旋转（转速：0-30rmp） 两个腔体通过卡箍式法兰连接（可点击图片查看详细资料）  
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| 真空系统（选配）
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10-2Torr(采用机械泵) 10-5Torr(采用涡旋分子泵) 可在本公司购买各种真空泵 
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| 窗口
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采用蓝宝石（Al2O3） 尺寸：Φ25*0.5mm 允许激光的入射角度为30°-90°  
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| 压力控制系统
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一套压力控制系统安装在仪器的腔体上，可保证腔体内部的气压恒定 与混气系统配合使用，可保证蒸发腔体中各种气体的分压恒定   
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| 混气系统
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配有2路质量流量计混合系统 混气罐尺寸：Φ80X120mm 最大气压：3×106Pa 精度：±1%FS 质量流量计量程：1:1-199sccm
2:1-499sccm 可按客户要求订制其他量程的质量流量计 可选购3-5路混气系统 
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| 等离子射频电源（可选购）
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可在设备上安装300W等离子射频电源，使腔体内的气体等离子化，达到等离子化激光蒸发反应镀膜  
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| 质保期
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一年质保期，终生维护（不包括密封圈、石英腔体和加热元件） |
| 仪器尺寸
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1300mm*1260mm*820mm |
| 质量认证
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若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证     
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