·水冷高真空腔体，真空度可达10-4Pa

·水冷铜坩埚，可按照客户要求制作成各种形状

·起弧钨针与样品距离可调节（电机驱动），最大距离100mm

·一个样品翻转杆，可在不破坏真空&气氛环境下反转样品

·吸铸功能，电磁搅拌功能：对高温熔融态的金属样品进行搅拌

·输入：380VAC，3相，65KW，50/60Hz

·高真空水冷腔体，材质为304不锈钢

·真空度：5×10-4Pa(采用1200L/s的分子泵系统）

·泄露率：5.0×10-5Pa.m3/s

·腔体尺寸：Φ400×350mm

·前门一个观察窗口，用于观察样品熔炼过程

·可选：CF法兰接口的2L储气罐，用于连接气体分析仪

·一个样品翻转杆，可在不破坏真空&气氛环境下，翻转样品

·2种规格的水冷铜可供选择：

 (1) 单工位水冷铜坩埚最大熔炼量500g(不锈钢密度计算），图1（直径120×深度20mm）

 (2) 5工位水冷铜坩埚，含真空吸铸和电磁搅拌工位（图2）

    工位1：Φ80×35mm,带有电磁搅拌功能

   工位2：Φ65×25mm

   工位3：Φ65×25mm

   工位4：Φ50×25mm用于熔Ti或Zr，吸腔体中的微量氧气

   工位5：Φ60×20mm,带真空吸铸功能，吸铸模具Φ8mm×70mm

·注意：熔炼样品量，是按照SS304不锈钢密度计算

·可更具客户要求定制水冷铜坩埚

     图1                 图2             图3  

·输出：83VDC，60A-1000A（可调）

·钨电极直径: Ø12 mm

·钨电极可移动行程 100 mm

·最大电流连续操作时间: 30 min

·安装有一个抽速为1200L/s的分子泵系统在设备上

·真空度：5.0×10-4Pa

·配有一台循环水冷机 流量58L/min,冷却能力：17KBTU/hr

·温度控制：5~30℃

·制冷剂：R410-a

·800mm×1200mm×1800mm

·高纯Ar气，纯度5N（＞99.999%）（设备中不包含）

·5% H2+ 95% Ar可能需要，用于在熔炼过程中防止样品氧化

·可能需要高出Ti样品，熔高纯Ti可吸收腔体中微量的氧

·气瓶上必须安装双级减压阀，将输出气体压力减小到0.02MPa

·一年质保期，终生维护